18 июня агентство Reuters сообщило, что министр торговли США Говард Лютник в ходе недавних встреч сообщил высшему руководству голландского производителя литографических машин ASML (ASML):Соединенные Штаты обеспокоены тем, что одно из лучших устройств для производства микросхем компании могло попасть в Китай, нарушив тем самым соответствующие правила экспортного контроля, установленные Соединенными Штатами.Эту новость впервые сообщило агентство Bloomberg.
Согласно сообщению, Лютник высказал вышеуказанные опасения во время встречи с высшим руководством голландской компании. ASML опроверг это, подчеркнув, что производительность систем литографии в крайнем ультрафиолете (EUV), используемых для производства сверхтонких микросхем, крайне ограничена и требует постоянного обслуживания инженерами ASML на протяжении всего жизненного цикла, поэтому поток оборудования легко контролируется.
По имеющимся данным, самая совершенная система EUV ASML по размеру эквивалентна школьному автобусу и весит около 180 тонн. Он считается ключевым оборудованием с «застрявшей шейкой» в нынешней цепочке производства высококачественных микросхем. Представитель ASML, по словам Bloomberg, сказал: «ASML никогда не продавала литографические машины EUV в Китай и не экспортировала в Китай какие-либо компоненты, модули или оборудование, специально разработанные для оборудования EUV».
Что касается соответствующих сообщений и претензий, Министерство торговли США, ASML и Белый дом не сразу отреагировали на обращение Reuters в нерабочее время. Ранее в декабре прошлого года агентство Reuters сообщало, что китайская научно-исследовательская группа разработала прототип EUV при участии нескольких бывших инженеров ASML. Это было описано как китайский исследовательский проект в стиле «Манхэттенского проекта» в области производства микросхем высокого класса.