Аннотация:
ASML, единственная в мире компания, способная производить оборудование для литографии в крайнем ультрафиолете, заявила, что влияние бума искусственного интеллекта на общество и индустрию микросхем не закончится в краткосрочной перспективе, но может продолжать проявляться в ближайшие 10-15 лет. Кристоф Фуке, генеральный директор ASML, заявил, что нынешние изменения, вызванные искусственным интеллектом, — это «лишь верхушка айсберга». Удовлетворение будущих потребностей потребует не только увеличения количества ускорителей искусственного интеллекта, но и усовершенствования оптических систем, разработки вертикальных конструкций чипов и расширения глобальной сети специализированных поставщиков.
ASML планирует модернизировать апертуру зеркала оборудования для литографии в крайнем ультрафиолете. Ожидается, что большая апертура позволит устройству более точно фокусировать ультрафиолетовый свет, тем самым поддерживая более тонкую гравировку рисунков и будущие усовершенствованные производственные процессы. В то же время ASML ожидает, что все больше схем в чипах перейдут от планарной компоновки к вертикальной укладке. Путем объединения транзисторов и других схем производители микросхем могут продолжать увеличивать плотность интеграции и производительность, поскольку дальнейшее уменьшение размеров транзисторов становится затруднительным. Это решение особенно важно для чипов искусственного интеллекта, которым требуется более высокая вычислительная мощность и более высокая скорость доступа к памяти.
Заключение ASML показывает, что искусственный интеллект обеспечивает не только краткосрочный рост спроса на ускорители, но и долгосрочный спрос на системы производства полупроводников. Затронутые области также включают производственное оборудование, передовую упаковку, память, сетевое оборудование и системы центров обработки данных, поддерживающие рабочие нагрузки искусственного интеллекта. ASML лежит в основе этой производственной цепочки, а ее системы литографии в крайнем ультрафиолете используются ведущими заводами по производству пластин для производства процессоров искусственного интеллекта.
Оборудование для экстремальной ультрафиолетовой литографии чрезвычайно сложно скопировать. Каждое оборудование стоит около 400 миллионов долларов и содержит более 100 000 деталей. Он использует лазеры, зеркала, вакуумные системы и капли расплавленного олова для генерации и направления крайнего ультрафиолетового света и проецирования его на кремниевую пластину. Все устройство размером примерно с двухэтажный автобус.
У ASML около 200 крупных поставщиков только систем защиты от экстремального ультрафиолета, а вся цепочка поставок включает около 2000 компаний. Zeiss отвечает за ключевые оптические компоненты, TRUMPF поставляет лазеры, а VDL производит электромеханические системы; ASML также приобрела производителя лазеров Cymer в 2013 году, чтобы обеспечить поставки ключевых компонентов. Из-за своей зависимости от большого количества узкоспециализированных деталей, производственного опыта и поставщиков, отвечающих строгим техническим требованиям, ASML не может быстро расширить производственные мощности просто за счет увеличения инвестиций в сборочные предприятия.
Фукай сказал, что чем сложнее продукт, тем большее преимущество ASML получает в конкурентоспособности, и компания может продвигать разработку технологий быстрее, чем другие компании. Nikon и Canon, которые когда-то конкурировали с ASML в области литографии, по-прежнему в основном ориентированы на оборудование для литографии в глубоком ультрафиолете. Оборудование глубокого УФ-излучения по-прежнему широко используется в производстве чипов, но самые передовые производственные процессы требуют литографии в крайнем ультрафиолете.
Рыночное положение ASML также делает его технологию объектом экспортных ограничений. В настоящее время компания не может продавать оборудование для литографии в крайнем ультрафиолете в Китай. Эта политика ограничивает доступ китайских производителей чипов к самым передовым инструментам для литографии, а также побуждает Китай развивать собственную цепочку поставок оборудования. Фукай сказал, что компания Huawei является важным участником исследований и разработок оборудования для глубокого ультрафиолета в Китае. Китай по-прежнему сильно отстает в производстве оборудования для замены экстремального ультрафиолета, но разрабатывает оборудование для глубокого ультрафиолета, а также компоненты, материалы и другие звенья, необходимые для производства полупроводников.
В области программного обеспечения для искусственного интеллекта ASML также владеет 11% акций французской компании Mistral, занимающейся искусственным интеллектом, что дает ей доступ на европейский рынок программного обеспечения для искусственного интеллекта. Однако основная роль ASML в индустрии искусственного интеллекта по-прежнему заключается в предоставлении оборудования для производства чипов. Ожидается, что в будущем более совершенные оптические системы для работы в крайнем ультрафиолете и вертикальные конструкции чипов помогут отрасли продолжать повышать производительность, но также повысят зависимость от специализированного производственного оборудования и эффективных цепочек поставок.
Комментарии