IBM и Siemens сотрудничают в продвижении NanoStack для изучения возможности масштабирования транзисторов от двухмерного к трехмерному стекированию.

📅 2026-10-15

Аннотация:

IBM и Siemens объявили о совместных исследованиях по развитию транзисторной архитектуры NanoStack, анонсированной IBM в этом году, с упором на разработку инструментов и процессов, необходимых для проектирования, моделирования и производства микросхем следующего поколения. IBM отвечает за технологию полупроводниковых устройств, а Siemens предоставит возможности в области автоматизации электронного проектирования, моделирования процессов, оптимизации литографии и передового производственного программного обеспечения. Обе стороны планируют создавать более сложные виртуальные модели для моделирования производительности, оптимизации конструкции и выявления проблем обработки перед фактическим производством чипов.

Основная идея NanoStack состоит в том, чтобы заменить транзисторы, которые традиционно располагаются рядом, в вертикальные стопки и расположить разные слои в шахматном порядке, чтобы преодолеть ограничение, связанное с продолжением сокращения расстояния между транзисторами в двухмерной плоскости. IBM заявила, что новая архитектура может использовать различные комбинации материалов для каждого слоя для оптимизации производительности транзисторов и энергопотребления соответственно; размещая транзисторы N-типа и P-типа друг на друге, проектировщики также могут более гибко выбирать материалы и методы подключения. IBM описывает его как первую в отрасли известную конструкцию трехмерного транзистора на основе нанолистов.

В июне этого года IBM объявила о результатах своих исследований в области 7-нанометровой (0,7-нанометровой) технологии, заявив, что почти 100 миллиардов транзисторов могут быть интегрированы в чип размером с ноготь, плотность которого примерно вдвое превышает плотность 2-нанометрового чипа. «0,7 нанометра» относится к названию технологического узла, а не к фактическому размеру каждого транзистора в чипе. Результаты документа, опубликованные IBM, показывают, что по сравнению с 2-нанометровым узлом новая технология может обеспечить максимальное повышение производительности примерно на 50% или снизить потребление энергии примерно на 70% при эквивалентной производительности; другие исследования показывают, что архитектура NanoStack может уменьшить площадь SRAM примерно на 40%. Эти цифры относятся к расчетам и прогнозам исследовательских технологий IBM, а не к фактически измеренным характеристикам продуктов массового производства.

Ранее IBM заявляла, что исследовательская группа подтвердила возможность реального производства и вычислений структуры NanoStack с помощью таких экспериментов, как сверхтонкое диэлектрическое соединение, двухканальная разработка и нормально переключающиеся CMOS-инверторы. Однако переход от лабораторных образцов к массовому производству по-прежнему требует решения таких проблем, как соединение и выравнивание пластин, межслойное рассеивание тепла, микропроводка, источник питания на задней стороне и трехмерный контроль. IBM заявила, что может перейти к стадии производства уже в ближайшие пять лет, но в этом объявлении о сотрудничестве с Siemens не были объявлены конкретные сроки разработки, объем инвестиций или заказчики коммерческого массового производства.

Целью этого сотрудничества является создание цепочки инструментов, которая позволит проектировать, моделировать и производить сложные трехмерные транзисторы, а не объявлять о запуске в производство новых чипов. IBM и Siemens надеются совместно оптимизировать физику устройств, программное обеспечение для проектирования микросхем и производственные процессы, чтобы заложить основу для последующих поколений NanoStack, а также технологических исследований и разработок за пределами 7-нанометрового узла.

Связанные теги

Похожие статьи

Японская компания Rapidus получает около 15 миллиардов долларов США в виде государственной поддержки и планирует запустить массовое производство 2-нм чипов в течение одного года. 2026-10-07 Учреждения прогнозируют, что цены на кремниевые пластины вырастут еще на 40% в 2027 году 2026-09-24 Руководитель TSMC: ИИ не может самостоятельно разрабатывать передовые технологии 1,4 нм, а инженеры-люди по-прежнему незаменимы 2026-09-19 Samsung объединяет усилия с Mistral AI для улучшения возможностей производства чипов и возглавляет новый раунд финансирования последней 2026-09-09 GlobalFoundries добавит два новых завода по производству пластин в Нью-Йорке, чтобы еще больше расширить возможности внутреннего производства чипов в США. 2026-10-15 Аналитики Уолл-стрит поставили под сомнение технологию памяти 4F² DDR5 компании China Changxin Memory: запуск в этом году не означает, что она на два года опережает Samsung. Доходность является ключевым моментом 2026-10-14

Комментарии

0/500
Captcha (click to refresh)
Нет комментариев