📅 09-09
ASML продвигает решение для крупногабаритных масок High-NA EUV, ориентируясь на массовое производство в 2033 году и повышая эффективность на 40%.
Аннотация: ASML работает с клиентами над разработкой более крупных масок для литографического оборудования EUV следующег